高純試劑主要用于化學研究等專業領域
更新日期：2019-07-22 瀏覽次數：2004
高純試劑在通用試劑基礎上發展起來的，是為了專門的使用目的而用特殊方法生產的純度高的試劑。高純試劑控制的是雜質項含 量，基準試劑控制的是主含量，基準試劑可用標準溶液的配制，但高純試劑不能用于標準溶液的配制（單質氧化物除外）。目前在上也無統一的明確規格，我國 除對少數產品制定了國家標準外，大部分高純試劑的質量標準還很不統一，在名稱上也有高純、超純、特純、光譜純、電子純等不同叫法。一般以9來表示產品的純度。 高純試劑是進行化學研究、成分分析的相對標準物質，是科技進步的重要條件，廣泛用于物質的合成、分離、定性和定量分析，可以說是化學工作者的眼睛，在工廠、學校、醫院和研究所的日常工作中，都離不開化學試劑。
高純試劑通常應用于專業領域，例如針對色譜使用的色譜純試劑、針對光譜使用的光譜純試劑。此外，電路、液晶等領域都有各自行業標準的高純試劑。
電子微加工技術用超凈高純試劑的品種已超過30種，目前應用廣泛的有10多種。依照其用途，可以劃分為光刻膠配套試劑、濕法蝕刻劑和濕法工藝試劑；依照其性質則可以分為：無機酸類、無機堿類、有機溶劑類及其他類型超凈高純試劑，如表12-4所示。資料顯示，超凈高純試劑在半導體工業中的消耗比例大致為：硫酸約占27%～33%，鹽酸約占3%～8%，其他酸約占10%～20%，氨水約占8%，有機溶劑約占10%～15%，雙氧水約占8%～22%，其他蝕刻劑約占12%～20%。
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